Veranstalter

Mitveranstalter

Partner

Medienpartner


Workshop 4:
Beschichtungen für den optischen Gerätebau

14. - 15. Oktober 2015 im WYNDHAM GARDEN Hotel Dresden

 

Mittwoch, 14. Oktober 2015

 

09:00 Uhr GDD-optimierte IBS-Beschichtungen für Femtosekunden-Laser 
Michael Kennedy, Tobias Groß, Wolfgang Ebert, LASEROPTIK GmbH, Garbsen
09:30 Uhr
Optisches Breitbandmonitoring für präzise Schichtabscheidung
Steffen Wilbrandt, Olaf Stenzel, Norbert Kaiser, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
10:00 Uhr Dispersive optics: From design to application
Vladimir Pervak, Ludwig Maximilians Universität, Garching
10:30 Uhr Pause
11:30 Uhr
Neuste Entwicklung in optischen Sensoren durch Integration von Interferenzfilter- und Halbleitertechnologie
Georg Ockenfuss, Optical Secrurity and Performance Group (OPS), VIAVI Solutions, USA
12:00 Uhr
Innovative Anlagenkonzepte für die Herstellung optischer Präszisionsschichten
Silvia Schwyn Thöny, Evatec Ltd, Trübbah, Schweiz
12:30 Uhr
Organische Nanostrukturen in komplexen Schichtsystemen zur Breitbandenspiegelung
Ulrike Schulz, Friedrich Rickelt, Peter Munzert, Norbert Kaiser, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
13:00 Uhr Mittagspause
14:00 Uhr Schichten für den DUV-Spektralbereich
Helmut Bernitzki, Sven Laux, Michael Klaus, Dieter  Fasold, Uwe Schuhmann, JENOPTIK Optical Systems GmbH, Jena
14:30 Uhr
Herstellung, Charakterisierung und Einsatzmöglichkeiten von Metallinselfilmen für optische Schichtsysteme
Mario Held, OptoTech Optikmaschinen GmbH, Wettenberg
14:50 Uhr Herstellung hochreflektierender Schichtsysteme mittels Magnetronsputtern
Harro Hagedorn, Bühler Alzenau GmbH, Alzenau
15:10 Uhr Die Hohlkathoden-Glimmentladung: Wiedergeburt einer vielseitigen Plasmaquelle für industrielle Anwendungen als PVD/PECVD -Tool für optoelektronische Bauelemente?
Bernd Szyszka, Ruslan Muydinov, Nivin Alktash, Yuan-Ruen Tseng, Darja Erfurt, Frank Schmidt, Kai Ortner, Ralf Bandorf, Thomas Jung, TU Berlin, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig
15:30 Uhr Pause
16:30 Uhr
Neue Entwicklungen optischer Beschichtungen - Hochstabile Antireflexbeschichtungen auf Saphir.
Michael Vergöhl, Sefan Bruns, Günter Bräuer, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig
17:00 Uhr Aktuelle Entwicklungen der Analyse und Kontrolle von IBS-Beschichtungsprozessen
Henrik Ehlers, Laser Zentrum Hannover, Hannover
17:30 Uhr Ende des 1. Workshoptages

 

Donnerstag, 15. Oktober 2015

 

09:00 Uhr
Carl Zeiss – Enabling the Nano-Age-World
Roland Lörcher, Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen
9:30 Uhr
Direktes optisches Monitoring für Strahlteilerschichten
Dirk Isfort, Carl Zeiss Jena GmbH, Oberkochen
10:00 Uhr
Großflächige präzisionsoptische Beschichtungen durch reaktives Puls-Magnetron-Sputtern
Peter Frach, Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP, Dresden
10:30 Uhr
Pause
11:30 Uhr
Industrienahes Forschungszentrum für optische Schichten in der Schweiz
Andreas Ettemeyer, Interstaatliche Hochschule für Technik Buchs, Buchs, Schweiz
11:50 Uhr
Dielektrische Materialien in dc und dc gepulsten Magnetron-Sputterprozessen
Nikolaus Weinberger, Stefan Schlichtherle, Georg N. Strauss, Universität Innsbruck, Innsbruck, Austria; PhysTech Coating Technology GmbH, Pflach, Austria
12:10 Uhr
Filterarrays für die Spektralsensorik
Thorsten Best, Optics Balzers AG, Jena
12:30 Uhr
Plasmacharakterisierung und neue Ansätze zur Steuerung von PIAD-Prozessen zur Herstellung von Dünnschichtoptiken
Rüdiger Foest, Jens Harhausen und Detlef Loffhagen, Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie (INP Greifswald), Greifswald
13:00 Uhr
Workshopende

 

zurück zur Workshop Übersicht


Workshop 4:
Beschichtungen für den optischen Gerätebau

14. - 15. Oktober 2015 im WYNDHAM GARDEN Hotel Dresden

Mittwoch, 14. Oktober 2015

 

GDD-optimierte IBS-Beschichtungen für Femtosekunden-Laser 
Tobias Groß, LASEROPTIK GmbH, Garbsen
 
Optisches Breitbandmonitoring für präzise Schichtabscheidung
Steffen Wilbrandt, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
 
Dispersive optics: From design to application
Vladimir Pervak, Ludwig Maximilians Universität, Garching
 
Neuste Entwicklung in optischen Sensoren durch Integration von Interferenzfilter- und Halbleitertechnologie
Georg Ockenfuss, Optical Secrurity and Performance Group (OPS), VIAVI Solutions, USA
 
Innovative Anlagenkonzepte für die Herstellung optischer Präszisionsschichten
Silvia Schwyn Thöny, Evatec Ltd, Trübbah, Schweiz
 
Organische Nanostrukturen in komplexen Schichtsystemen zur Breitbandenspiegelung
Astrid Bingel, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
 
Schichten für den DUV-Spektralbereich
Helmut Bernitzki, JENOPTIK Optical Systems GmbH, Jena
 
Herstellung, Charakterisierung und Einsatzmöglichkeiten von Metallinselfilmen für optische Schichtsysteme
Mario Held, OptoTech Optikmaschinen GmbH, Wettenberg
 
Herstellung hochreflektierender Schichtsysteme mittels Magnetronsputtern
Harro Hagedorn, Bühler Alzenau GmbH, Alzenau
 
Die Hohlkathoden-Glimmentladung: Wiedergeburt einer vielseitigen Plasmaquelle für industrielle Anwendungen als PVD/PECVD -Tool für optoelektronische Bauelemente?
Ruslan Muydinov, TU Berlin, Institut für Hochfrequenz- und Halbleitersystemtechnologien, Berlin
 
Neue Entwicklungen optischer Beschichtungen - Hochstabile Antireflexbeschichtungen auf Saphir.
Michael Vergöhl, Sefan Bruns, Günter Bräuer, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig
 
Aktuelle Entwicklungen der Analyse und Kontrolle von IBS-Beschichtungsprozessen
Henrik Ehlers, Laser Zentrum Hannover, Hannover

 

Donnerstag, 15. Oktober 2015

 

Carl Zeiss – Enabling the Nano-Age-World
Stephan Müllender, Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen
 
Direktes optisches Monitoring für Strahlteilerschichten
Dirk Isfort, Carl Zeiss Jena GmbH, Oberkochen
 
Großflächige präzisionsoptische Beschichtungen durch reaktives Puls-Magnetron-Sputtern
Peter Frach, Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP, Dresden
 
Industrienahes Forschungszentrum für optische Schichten in der Schweiz
Andreas Ettemeyer, Interstaatliche Hochschule für Technik Buchs, Buchs, Schweiz
 
Dielektrische Materialien in dc und dc gepulsten Magnetron-Sputterprozessen
Vincent van Karsbergen, Universität Innsbruck, Austria
 
Filterarrays für die Spektralsensorik
Thorsten Best, Optics Balzers AG, Jena
 
Plasmacharakterisierung und neue Ansätze zur Steuerung von PIAD-Prozessen zur Herstellung von Dünnschichtoptiken
Rüdiger Foest, Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie (INP Greifswald), Greifswald

 

zurück zur Startseite