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Workshop 5:
Beschichtungen für den optischen Gerätebau

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16. und 17. Oktober 2013 im RAMADA Hotel Dresden

 

Mittwoch, 16. Oktober 2013

09:00 Uhr Keynote
Optische dünne Schichten - Rückblick  und Ausblick 

Harald Mändl; Agfa-Gevaert HealthCare GmbH, Peiting 
09:30 Uhr
DUV-Schichten: Alte Probleme und neue Herausforderungen
Helmut Bernitzki; JENOPTIK Optical Systems GmbH, Jena
09:50 Uhr Realisierung von Coating-Designs für die Präzisionsoptik im Produktionsumfeld
Martin Bischoff; Qioptiq Photonics GmbH & Co. KG, Göttingen
10:10 Uhr Anforderungen an optische Schichten in der Schweizer Uhrenindustrie
Peter Weiss; BLÖSCH AG, Grenchen, Schweiz
10:30 Uhr Pause
11:30 Uhr
Keynote
Hochanspruchsvolle optische Beschichtungen: Anwendung und Herstellung mittels Sputter-Technologie
Ulf Brauneck; SCHOTT Suisse SA, Yverdon-les-Bains, Schweiz
12:00 Uhr
Miniaturisierte optische Filter für die photonische Netzwerktechnik
Henrik Ehlers; Laser Zentrum Hannover e.V.
12:20 Uhr
Low Loss-Beschichtungen: Stand der Technik
Kai Starke; Cutting Edge Coatings GmbH, Hannover

Detlev Ristau; Laser Zentrum Hannover e.V.
12:40 Uhr Neuerungen aus dem Bereich IBS
Mathias Mende; Laseroptik GmbH, Garbsen
13:00 Uhr Mittagspause
14:00 Uhr
Keynote
Von Polymer- bis Flüssigsputtern –
Prozesse für optische Funktionsschichten
Michael Vergöhl; Fraunhofer IST, Braunschweig
14:30 Uhr
Vom Granulat bis zum Rohrtarget - Materialquellen für optische Schichtsysteme 
Grit Hüttl; GfE Fremat GmbH, Freiberg
14:50 Uhr
Rohrkathoden - die Lösung auch für die Präzisionsoptik?
Daniel Rademacher; Fraunhofer IST, Braunschweig
15:10 Uhr Herstellung und Charakterisierung von optischen Filtern für die Raman-Spektroskopie
Jan Broßmann; Optics Balzers Jena GmbH
15:30 Uhr Pause
16:30 Uhr Schichtdickenverteilung neu beleuchtet
Silvia Schwyn Thöny; Evatec Ltd., Flums, Schweiz
16:50 Uhr Magnetron gesputterte Interferenzfilter mit hoher Laserzerstörschwelle
Harro Hagedorn; Leybold Optics GmbH
17:10 Uhr Modell-basierte Optimierung und Entwicklung der Beschichtungsprozesse
Diana Tonova, Dirk Isfort; Carl Zeiss Jena GmbH, Oberkochen
17:30 Uhr Ende des 1. Workshop-Tages


Donnerstag, 17. Oktober 2013

09:00 Uhr
Keynote
Aktuelle Trends in der Beschichtung von EUV Lithografieoptiken
Christoph Zaczek; Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen
09:30 Uhr
Lebenszeit und Reinigung von Multilayer LPP-Kollektorspiegeln
Torsten Feigl; optiX Fab GmbH, Jena
09:50 Uhr AR auf sphärischen Flächen
Martin Grössl; FISBA Optik, St. Gallen, Schweiz
10:10 Uhr
Moderne PVD Technologien zur Herstellung von dünnen Schichten für die Optik
Georg N. Strauss; PhysTech Coating Technology GmbH, Pflach, Österreich
10:30 Uhr Pause
11:30 Uhr
Keynote
Selection of the most manufacturable designs on the basis of full-scale computational manufacturing experiments 
Michael K. Trubetskov; Research Computing Center, Universität Moskau, Russland  
12:00 Uhr
Entspiegelung von Polycarbonat für Anwendungen im Fahrzeugbau
Annegret Matthai; AUDI AG, Ingolstadt
Peter Munzert, Dr. Ulrike Schulz; Fraunhofer IOF, Jena
12:20 Uhr
Anwendungen von Interferenzfiltern für die Stereoskopie
Dr. Klaus Rohwer; Infitec GmbH, Ulm
12:40 Uhr
Organische, plasmageätzte Nanostrukturen für Antireflex-Beschichtungen auf Glas
Rudolf Nottebohm; Agfa-Gevaert HealthCare GmbH, Peiting
Dr. Ulrike Schulz; Fraunhofer IOF, Jena
13:00 Uhr Workshopende

 

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